ASML descarta el FEL que respalda Musk y se queda con su fuente de plasma de 1.000 W
La compañía holandesa ve suficientes avances en su láser de CO₂ sobre estaño como para no explorar el láser de electrones libres, según una nota de JPMorgan a clientes.
ASML no tiene intención de mover ficha en su fuente de luz. Según una nota de JPMorgan enviada a clientes, la empresa holandesa ve suficientes avances en su tecnología de plasma producido por láser (LPP) como para no explorar el láser de electrones libres (FEL) que defiende Elon Musk. El fabricante mantiene el rumbo hacia sistemas de 1.000 W sobre la misma arquitectura que usa hoy, y es el único proveedor de escáneres de litografía EUV del mercado.
Cómo funciona la fuente que ASML no piensa cambiar
En un sistema EUV actual, un láser de CO₂ dispara pulsos de alta potencia contra gotas de estaño fundido de unas 30 micras de diámetro. El impacto convierte cada gota en plasma ionizado, con temperaturas de electrones de varias decenas de electronvoltios, y ese plasma emite radiación en 13,5 nm, la longitud de onda que trabaja la EUV. Un espejo colector elíptico de aproximadamente 0,5 metros, recubierto con capas alternas de molibdeno y silicio, recoge esa luz y la dirige hacia el foco intermedio, en la entrada del escáner.
El detalle incómodo es que prácticamente cualquier material absorbe la radiación EUV, incluidos los espejos multicapa especializados. Por eso todo el camino óptico trabaja en vacío y con óptica reflectiva en lugar de refractiva. Esa es una de las razones por las que conseguir potencia de fuente suficiente sigue siendo un dolor de cabeza.
El FEL y lo que se sabe de la decisión
El FEL genera la radiación a partir de un acelerador de partículas en vez de un plasma de estaño. Sobre el papel tiene ventajas, varias compañías lo proponen y Musk lo ha apoyado públicamente. La postura que JPMorgan atribuye a ASML cabe en una línea: con los avances en láser, no hay motivo para probar la alternativa.
Conviene tener presente de dónde sale el dato. No es un anuncio de ASML ni una comparativa técnica publicada por la compañía: es la lectura de un analista a partir de conversaciones con la empresa, recogida por Semi Doped. ASML no ha enseñado ninguna demo de FEL ni ha detallado cifras de potencia comparadas entre ambas aproximaciones. La cifra de 1.000 W es la meta de su línea LPP, no una medida independiente del FEL.
Para quien sigue la capacidad de fabricación de obleas, el asunto tiene consecuencias prácticas. La potencia de la fuente marca el ritmo de la fábrica: menos vatios, menos obleas por hora y más coste por wafer. Si ASML se queda en LPP, las mejoras llegan por incrementos de láser sobre una arquitectura conocida, no por un cambio de diseño de la fuente. Quien planifique capacidad a varios años vista puede seguir asumiendo esa hoja de ruta. Lo que no hay todavía es una confirmación oficial de la compañía, y menos una fecha para el salto a 1.000 W.
